仪器分类
全部 光刻工艺 薄膜沉积工艺 刻蚀工艺 热处理工艺 封装工艺 形貌表征 清洗工艺 设计平台
所属单位
全部 电子科学与技术学院
预约模式
全部 按时预约 项目委托

等离子深硅刻蚀机

校内 > 电子科学与技术学院

  • 仪器分类:刻蚀工艺
  • 所属单位:校内 > 电子科学与技术学院
  • 使用模式:项目委托,按时预约
  • 规格型号:HSE M200
  • 放置房间号:文宣楼C406-4洁净室

离子刻蚀机RIE1

校内 > 电子科学与技术学院

  • 仪器分类:刻蚀工艺
  • 所属单位:校内 > 电子科学与技术学院
  • 使用模式:项目委托,按时预约
  • 规格型号:RIE-100
  • 放置房间号:文宣楼C202-2洁净室

离子刻蚀机RIE2

校内 > 电子科学与技术学院

  • 仪器分类:刻蚀工艺
  • 所属单位:校内 > 电子科学与技术学院
  • 使用模式:项目委托,按时预约
  • 规格型号:RIE-100
  • 放置房间号:文宣楼C202-2洁净室

离子刻蚀机RIE3

校内 > 电子科学与技术学院

  • 仪器分类:刻蚀工艺
  • 所属单位:校内 > 电子科学与技术学院
  • 使用模式:项目委托,按时预约
  • 规格型号:RIE-100
  • 放置房间号:文宣楼C202-2洁净室

离子刻蚀机RIE4

校内 > 电子科学与技术学院

  • 仪器分类:刻蚀工艺
  • 所属单位:校内 > 电子科学与技术学院
  • 使用模式:项目委托,按时预约
  • 规格型号:RIE-100
  • 放置房间号:文宣楼C202-2洁净室

离子刻蚀机ICP

校内 > 电子科学与技术学院

  • 仪器分类:刻蚀工艺
  • 所属单位:校内 > 电子科学与技术学院
  • 使用模式:项目委托,按时预约
  • 规格型号:ICP-100
  • 放置房间号:文宣楼C202-2洁净室