磁控溅射台（PVD）2

  • 仪器分类：薄膜沉积工艺
  • 所属单位：校内 > 电子科学与技术学院
  • 放置房间号：文宣楼C406-3洁净室
  • 规格型号：PVD-100
  • 仪器生产商：嘉兴科民电子设备技术有限公司
  • 购置日期：2021-12-01
  • 使用模式：项目委托,按时预约
  • 仪器状态：
仪器生产商： 嘉兴科民电子设备技术有限公司
资产编号： S2113416
资产负责人： 李明泼
购置日期： 2021-12-01
仪器价格： 37.50 万元
仪器产地： 中国
仪器供应商： 嘉兴科民电子设备技术有限公司
购买经办人： 林珊珊
主要配件： 机械真空泵，分子泵，取样夹具 rf1: Ti靶 rf2: Cu靶
主要参数： 衬底尺寸：最大4英寸 工艺温度：室温〜300°C 本底真空：≤7×10-7Torr 射频电源功率：10~500W 均匀性误差：±5%
仪器介绍：

磁控溅射是物理气相沉积的一种，是用带荷粒子轰击靶材表面，使靶材的原子被击出、进而沉积在基体表面成膜，具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强的优点。PVD-100磁控溅射台配置有高性能真空泵，人性化的图形化操作界面，操作简便，适用范围广，可用于多种材料的溅射镀膜研发，如Au、Ag、Pt、Ti、Al、Si、氧化物等。



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工作时间： 09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段： 0.5 小时
最大可预约时间段： 168 小时
日历最小单位： 0.5 小时
最近提前预约时间： 未授权用户: 12小时； 普通资格用户: 4小时； 资深资格用户: 0小时
最远提前预约时间： 未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
预约保护时间： 30 分钟
失约保护时间： 30 分钟
断电延时时间： 30 秒
最短重上电时间： 5 秒
使用超时提醒： 120 秒
最大有效预约次数： 5 次 /天
无代价撤销预约时间： 1440 分钟
用户资格 工作时间 非工作时间
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资深资格 免审核 免审核
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