365nmLED紫外光刻机 3（4楼）

  • 仪器分类：图形工艺
  • 所属单位：校内 > 电子科学与技术学院
  • 放置房间号：翔安校区文宣楼C406实验室2
  • 规格型号：Lithography-100
  • 仪器生产商：嘉兴科民电子设备技术有限公司
  • 购置日期：2021-12-01
  • 使用模式：项目委托,按时预约
  • 仪器状态：
仪器生产商:嘉兴科民电子设备技术有限公司
资产编号:S2112427
资产负责人:熊柳静
购置日期:2021-12-01
仪器价格:44.90 万元
仪器产地:中国
仪器供应商:嘉兴科民电子设备技术有限公司
购买经办人:林珊珊
主要配件:5inch（4inch wafer）、 4inc（3inch wafer）、 3 inch(2inch wafer)三种掩模架
主要参数:1、曝光光源（Exposure Light Source）：LED 365nm。 2、数值孔径（ NA）： 0.12。 3、分辨率(Resolution) ：1um。 4、对准精度（Alignment accuracy）： ±1μ m。 5、基底尺寸(Substrate Size)：2"、 3"、 4"。 6、曝光均匀性（uniformity of exposure ）：<5%。 7、曝光方式（exposure method ）：接触式（Contact）。 8、曝光强度（exposure intensity ）：≤10mW/cm2。 9、视场大小（Field size, for reticle with pellicle）：Max X: 35.0 mm、Max Y: 35.0 mm。 10、失真 Distortion (Dynamic)：≤ 30 nm。
仪器介绍:

光源采用 LED 灯珠，曝光波长使用 365nm。

对准采用双 CCD， 通过观察电脑显示屏进行对准。对准物镜轴距可在±10mm 之间变化。在显示屏上可单独观察到一个视场的像，也可同时观测到两个视场的像。

机器由单片机系统控制，通过电脑显示屏上的控制界面进行操作。

工件台和 mask（真空吸住） 固定不动， wafer 相对于 mask 可作 X、 Y、Z、θx、θy、θz六维运动，其中 X、 Y、  θz通过手轮调节， Z、θx、θy、 自动调节。共有 5inch（4inch wafer）、 4inc（3inch wafer）、 3 inch(2inch wafer)三种掩模架。


光强为8.43mW/cm2。


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工作时间:09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段:0.25 小时
最大可预约时间段:168 小时
日历最小单位:0.25 小时
最近提前预约时间: 未授权用户: 360小时； 普通资格用户: 6小时； 资深资格用户: 6小时
最远提前预约时间: 未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
预约保护时间:15 分钟
失约保护时间:15 分钟
断电延时时间:30 秒
最短重上电时间:5 秒
使用超时提醒:120 秒
最大有效预约次数:5 次/天
无代价撤销预约时间:1440 分钟
用户资格 工作时间 非工作时间
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普通资格 需审核 需审核
资深资格 免审核 免审核
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