磁控镀膜溅射台

  • 仪器分类:薄膜沉积工艺
  • 所属单位:校内 > 电子科学与技术学院
  • 放置房间号:文宣楼C406洁净室
  • 规格型号:PVD
  • 仪器生产商:待定
  • 购置日期:2021-06-03
  • 使用模式:项目委托,按时预约
  • 仪器状态:
仪器生产商: 待定
资产编号: 1706772G
资产负责人: 李明泼
购置日期: 2021-06-03
仪器价格: 10.00 万元
仪器产地: 中国
仪器供应商: ----
购买经办人: 林珊珊
主要配件: 机械真空泵,分子泵,取样夹具
主要参数: 衬底尺寸: 工艺温度: 本底真空: 射频电源功率: 均匀性误差:
仪器介绍:

磁控溅射是物理气相沉积的一种,是用带荷粒子轰击靶材表面,使靶材的原子被击出、进而沉积在基体表面成膜,具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强的优点

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工作时间: 09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段: 0.5 小时
最大可预约时间段: 168 小时
日历最小单位: 0.5 小时
最近提前预约时间: 未授权用户: 6小时; 普通资格用户: 6小时; 资深资格用户: 6小时
最远提前预约时间: 未授权: 720 小时 0 点; 普通: 720 小时 0 点; 资深: 720 小时 0 点
预约保护时间: 30 分钟
失约保护时间: 30 分钟
断电延时时间: 30 秒
最短重上电时间: 5 秒
使用超时提醒: 120 秒
最大有效预约次数: 5 次 /天
无代价撤销预约时间: 1440 分钟
用户资格 工作时间 非工作时间
未授权资格 需审核 需审核
普通资格 需审核 需审核
资深资格 免审核 免审核
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