磁控溅射是物理气相沉积的一种，是用带荷粒子轰击靶材表面，使靶材的原子被击出、进而沉积在基体表面成膜，具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强的优点。PVD-100磁控溅射台配置有高性能真空泵，人性化的图形化操作界面，操作简便，适用范围广，可用于多种材料的溅射镀膜研发，如Au、Ag、Pt、Ti、Al、Si、氧化物等。