基本信息

  • 生产厂商 嘉兴科民电子设备技术有限公司
  • 资产编号
  • 资产负责人 李明泼
  • 购置日期2021-12-01
  • 仪器价格44.90 万元
  • 仪器产地中国
  • 仪器供应商嘉兴科民电子设备技术有限公司
  • 购买经办人林珊珊
  • 主要配件 2"、 3"、 4"寸基底，3"、 4"、 6"寸掩模版台
  • 主要参数曝光光源（Exposure Light Source） LED 365nm 数值孔径（ NA） 0.12 分辨率(Resolution) 1um 对准精度（Alignment accuracy） ±1μ m 基底尺寸(Substrate Size) 2"、 3"、 4" 曝光均匀性（uniformity of exposure ） <5% 曝光方式（exposure method ） 接触式（Contact） 曝光强度（exposure intensity ） ≤10mW/cm2 视场大小（Field size, for reticle with pellicle） Max X: 35.0 mm Max Y: 35.0 mm 失真 Distortion (Dynamic) ≤ 30 nm

仪器介绍

光源采用 LED 灯珠，曝光波长使用 365nm。

对准采用双 CCD， 通过观察电脑显示屏进行对准。对准物镜轴距可在±10mm 之间变化。在显示屏上可单独观察到一个视场的像，也可同时观测到两个视场的像。

机器由单片机系统控制，通过电脑显示屏上的控制界面进行操作。

工件台和 mask（真空吸住） 固定不动， wafer 相对于 mask 可作 X、 Y、Z、θx、θy、θz六维运动，其中 X、 Y、  θz通过手轮调节， Z、θx、θy、 自动调节。共有 5inch（4inch wafer）、 4inc（3inch wafer）、 3 inch(2inch wafer)三种掩模架。