规格型号

SUSS MA/BA8 Gen4

仪器放置位置

厦门大学翔安校区文宣楼C202洁净室1

仪器功能介绍

SUSS MA/BA8 Gen4 光刻机是德国SUSS MA系列的接近-接触式正面/背面对准紫外光刻机光产品，可以用于 8 寸及 8 寸以下尺寸晶圆。包括   UV400 波段，含 I（365nm）G（405nm）H（436nm）三个波长，光强≥35mw/cm2@365nm；支持软接触、硬接触、接近接触和真空接触四种曝光模式；正面对准系统镜头的移动范围：X 方向≥30mm-200mm；Y 方向≥± 55mm；Z 方向≥40mm；背面显微镜镜头的移动范围：X 方向≥± 15mm；Y 方向≥21mm；Z 方向≥11mm。

性能指标

1、适用于最大8英寸晶圆、并向下兼容6英寸、4英寸；
2、LED光源，包括 UV400 波段，含 I（365nm）G（405nm）H（436nm）三个波长，光强≥35mw/cm2@365nm（8英寸范围内）；光强均匀性≤±2.5% （8英寸范围@365nm）
3、套刻精度：正面套刻精度≤±0.5um；背面套刻精度≤±1um
4、紫外曝光分辨率(150mm 样品，胶厚1 um)：真空接触≤1.0um；硬接触≤1.5um；软接触≤2.5um；接近式≤3.0um；
5、支持恒定功率、恒定剂量曝光。

样品要求

1、样片直径可为8英寸、6英寸、4英寸；
2、样品需由匀胶和热板工艺预处理，另参考相关设备工艺指标

仪器说明

1、该设备构成：主机、曝光系统、显微对准系统、计算机图像系统、对准台、芯片夹具、掩模版夹具、附件等。；
2、配置掩模板架：3套，5×5英寸，7×7英寸，9×9英寸；
3、配有样品夹具：真空，背对准，配置4英寸、6英寸、8英寸真空夹具。