基本信息

  • 生产厂商 嘉兴科民电子设备技术有限公司
  • 资产编号 S2112427
  • 资产负责人 熊柳静
  • 购置日期2021-12-01
  • 仪器价格44.90 万元
  • 仪器产地中国
  • 仪器供应商嘉兴科民电子设备技术有限公司
  • 购买经办人林珊珊
  • 主要配件 5inch（4inch wafer）、 4inc（3inch wafer）、 3 inch(2inch wafer)三种掩模架
  • 主要参数1、曝光光源（Exposure Light Source）：LED 365nm。 2、数值孔径（ NA）： 0.12。 3、分辨率(Resolution) ：1um。 4、对准精度（Alignment accuracy）： ±1μ m。 5、基底尺寸(Substrate Size)：2"、 3"、 4"。 6、曝光均匀性（uniformity of exposure ）：<5%。 7、曝光方式（exposure method ）：接触式（Contact）。 8、曝光强度（exposure intensity ）：≤10mW/cm2。 9、视场大小（Field size, for reticle with pellicle）：Max X: 35.0 mm、Max Y: 35.0 mm。 10、失真 Distortion (Dynamic)：≤ 30 nm。

仪器介绍

光源采用 LED 灯珠，曝光波长使用 365nm。

对准采用双 CCD， 通过观察电脑显示屏进行对准。对准物镜轴距可在±10mm 之间变化。在显示屏上可单独观察到一个视场的像，也可同时观测到两个视场的像。

机器由单片机系统控制，通过电脑显示屏上的控制界面进行操作。

工件台和 mask（真空吸住） 固定不动， wafer 相对于 mask 可作 X、 Y、Z、θx、θy、θz六维运动，其中 X、 Y、  θz通过手轮调节， Z、θx、θy、 自动调节。共有 5inch（4inch wafer）、 4inc（3inch wafer）、 3 inch(2inch wafer)三种掩模架。


光强为8.43mW/cm2。