主要由高精度对准工作台、双目分离视场立式显微镜或双目分离视场卧式显微镜、数字式摄像头、计算机成象记忆系统、6″LED专用曝光头、PLC控制系统、气动系统、真空系统、直联式真空泵、二级防震工作台和附件箱等组成。可双面对准单面曝光,适用于150mm×150mm(6寸)以下、厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的对准曝光,套刻精度高、速度快,可靠性高且操作简便。
曝光的片能真空吸附到承片台上,尺寸需要大于Φ12mm。
| 电压(V) | 电流(A) | 光强(mw/cm2) |
| 1.5 | 1.125 | 9.78 |
| 1 | 0.5 | 7.24 |
| 0.5 | 1 | 4.71 |