365nmLED紫外光刻机 4

  • 仪器分类：光刻工艺
  • 所属单位：校内 > 电子科学与技术学院
  • 放置房间号：文宣楼C202-3洁净室
  • 规格型号：Lithography-100
  • 仪器生产商：嘉兴科民电子设备技术有限公司
  • 购置日期：2021-12-01
  • 使用模式：项目委托,按时预约
  • 仪器状态：
仪器生产商:嘉兴科民电子设备技术有限公司
资产编号:----
资产负责人:李明泼
购置日期:2021-12-01
仪器价格:44.90 万元
仪器产地:中国
仪器供应商:嘉兴科民电子设备技术有限公司
购买经办人:林珊珊
主要配件:2"、 3"、 4"寸基底，3"、 4"、 6"寸掩模版台
主要参数:曝光光源（Exposure Light Source） LED 365nm 数值孔径（ NA） 0.12 分辨率(Resolution) 1um 对准精度（Alignment accuracy） ±1μ m 基底尺寸(Substrate Size) 2"、 3"、 4" 曝光均匀性（uniformity of exposure ） <5% 曝光方式（exposure method ） 接触式（Contact） 曝光强度（exposure intensity ） ≤10mW/cm2 视场大小（Field size, for reticle with pellicle） Max X: 35.0 mm Max Y: 35.0 mm 失真 Distortion (Dynamic) ≤ 30 nm
仪器介绍:

光源采用 LED 灯珠，曝光波长使用 365nm。

对准采用双 CCD， 通过观察电脑显示屏进行对准。对准物镜轴距可在±10mm 之间变化。在显示屏上可单独观察到一个视场的像，也可同时观测到两个视场的像。

机器由单片机系统控制，通过电脑显示屏上的控制界面进行操作。

工件台和 mask（真空吸住） 固定不动， wafer 相对于 mask 可作 X、 Y、Z、θx、θy、θz六维运动，其中 X、 Y、  θz通过手轮调节， Z、θx、θy、 自动调节。共有 5inch（4inch wafer）、 4inc（3inch wafer）、 3 inch(2inch wafer)三种掩模架。



主要仪器管理员: 李明泼(电话:13959278330)
仪器管理员: 谭颖玲(电话:15751866591)
仪器管理员: 戴彬(电话:13695987287)
仪器管理员: 梁冬雪(电话:18850013376)
仪器管理员: 李君兰(电话:18506926816)
仪器管理员: 郭文安(电话:13559290195)
工作时间:09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段:0.5 小时
最大可预约时间段:168 小时
日历最小单位:0.5 小时
最近提前预约时间: 未授权用户: 24小时； 普通资格用户: 24小时； 资深资格用户: 24小时
最远提前预约时间: 未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
预约保护时间:15 分钟
失约保护时间:15 分钟
断电延时时间:30 秒
最短重上电时间:5 秒
使用超时提醒:120 秒
最大有效预约次数:5 次/天
无代价撤销预约时间:1440 分钟
用户资格 工作时间 非工作时间
未授权资格 需审核 需审核
普通资格 需审核 需审核
资深资格 免审核 免审核
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1 Lithography-100型紫外光刻机操作规程 1 2022-04-14 11:36:40 文件下载
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