主要由高精度对准工作台、双目分离视场立式显微镜或双目分离视场卧式显微镜、数字式摄像头、计算机成象记忆系统、6″LED专用曝光头、PLC控制系统、气动系统、真空系统、直联式真空泵、二级防震工作台和附件箱等组成。可双面对准单面曝光,适用于150mm×150mm以下、厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的对准曝光,套刻精度高、速度快,可靠性高且操作简便。
用户资格 | 工作时间 | 非工作时间 |
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资深资格 | 免审核 | 免审核 |
序号 | 标题 | 文件数量 | 添加时间 | 操作 |
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1 | G-33型高精密双面光刻机 双面 | 1 | 2022-04-14 11:43:02 | 文件下载 |
2 | G-33型高精密双面光刻机 单面 | 1 | 2022-04-14 11:42:38 | 文件下载 |
序号 | 标题 | 添加时间 | 操作 |
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