原子层沉积机T-ALD2

  • 仪器分类：薄膜沉积工艺
  • 所属单位：校内 > 电子科学与技术学院
  • 放置房间号：文宣楼C202-2洁净室
  • 规格型号：TALD-150DO
  • 仪器生产商：嘉兴科民电子设备技术有限公司
  • 购置日期：2021-06-01
  • 使用模式：项目委托,按时预约
  • 仪器状态：
仪器生产商:嘉兴科民电子设备技术有限公司
资产编号:S2112416
资产负责人:----
购置日期:2021-06-01
仪器价格:60.00 万元
仪器产地:中国
仪器供应商:嘉兴科民电子设备技术有限公司
购买经办人:林珊珊
主要配件:铝腔，最大6寸，最高温度280℃
主要参数:衬底尺寸：最大6英寸 工艺温度：室温〜500°C 源加热温度：室温~200℃ 沉积速率：以Al2O3为例1.2 Å/cycle，200℃，0.2 Torr 本底真空：＜5*10-3Torr 响应时间：≤5ms 腔体尺寸：750mm*630mm*1234mm 源：H2O、O3、3DMASi、TDMATi 可成膜：SiO2、TiO2
仪器介绍:

热型原子层沉积（Thermal Atomic Layer Deposition，T-ALD）是通过吸收衬底或腔室的热量激发前驱物发生化学反应，基于连续的气相表面反应，获得纳米级的、具有非常好的保型性和工艺可控性的单层或多层薄膜。T-ALD双腔原子层沉积系统具备均匀的加热和高精度的控制，采用加热辅助增强模式，可沉积多种超薄、高保形性、高台阶覆盖能力的高质量介质薄膜，包括金属氧化物和金属氮化物，如Al2O3、ZnO、HfO2和TiO2等，厚度可实现原子层的控制。


设备编号沉积材料源1源2
T-ALD2TiO2TDMATiH2O


主要仪器管理员: 谭颖玲(电话:15751866591)
仪器管理员: 李明泼(电话:13959278330)
仪器管理员: 戴彬(电话:13695987287)
工作时间:09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段:0.5 小时
最大可预约时间段:168 小时
日历最小单位:0.5 小时
最近提前预约时间: 未授权用户: 1小时； 普通资格用户: 1小时； 资深资格用户: 1小时
最远提前预约时间: 未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
预约保护时间:15 分钟
失约保护时间:30 分钟
断电延时时间:30 秒
最短重上电时间:5 秒
使用超时提醒:120 秒
最大有效预约次数:5 次/天
无代价撤销预约时间:1440 分钟
用户资格 工作时间 非工作时间
未授权资格 需审核 需审核
普通资格 需审核 需审核
资深资格 免审核 免审核
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1 ALD操作规程 1 2022-04-14 11:28:39 文件下载
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