氧化扩散炉1

  • 仪器分类：热处理工艺
  • 所属单位：校内 > 电子科学与技术学院
  • 放置房间号：文宣楼C406-5洁净室
  • 规格型号：HQ150A-DF
  • 仪器生产商：青岛华族科技有限公司
  • 购置日期：2021-06-01
  • 使用模式：按时预约
  • 仪器状态：
仪器生产商:青岛华族科技有限公司
资产编号:----
资产负责人:李明泼
购置日期:2021-06-01
仪器价格:19.50 万元
仪器产地:中国
仪器供应商:青岛华族科技有限公司
购买经办人:林珊珊
主要配件:----
主要参数:工作温度：200～1100℃ 炉体内径：Ф210mm 石英管内径：Ф180mm 温度斜变能力：最大可控升温速度：15℃/min 最大降温速度：5℃/min 最大升温功率：18KW（4寸） 最大保温功率：10KVA/管 工艺气体：O2、N2
仪器介绍:

氧化扩散炉系统主要用于实验室半导体集成电路、分立器件光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等领域，适用6英寸硅片的氧化、扩散等工艺。氧化（Oxidation）是将硅片放置于氧气等氧化剂的氛围中进行高温热处理，在硅片表面发生化学反应形成氧化膜的过程，氧化膜可作为离子注入的阻挡层及注入穿透层、表面钝化、绝缘栅材料以及器件保护层、隔离层、器件结构的介质层等。扩散（Diffu####）是在高温条件下，利用热扩散原理将杂质元素按工艺要求掺入衬底中，使其具有特定的浓度分布，达到改变材料的电学特性，形成半导体器件结构的目的。


主要仪器管理员: 李明泼(电话:13959278330)
仪器管理员: 谭颖玲(电话:15751866591)
仪器管理员: 戴彬(电话:13695987287)
仪器管理员: 梁冬雪(电话:18850013376)
仪器管理员: 李君兰(电话:18506926816)
工作时间:09:00-12:00;14:00-18:00
最小可预约时间段:0.5 小时
最大可预约时间段:168 小时
日历最小单位:0.5 小时
最近提前预约时间: 未授权用户: 12小时； 普通资格用户: 12小时； 资深资格用户: 0小时
最远提前预约时间: 未授权: 720 小时 0 点； 普通: 720 小时 0 点； 资深: 720 小时 0 点
预约保护时间:15 分钟
失约保护时间:15 分钟
断电延时时间:30 秒
最短重上电时间:5 秒
使用超时提醒:120 秒
最大有效预约次数:5 次/天
无代价撤销预约时间:1440 分钟
用户资格 工作时间 非工作时间
未授权资格 需审核 需审核
普通资格 需审核 需审核
资深资格 免审核 免审核
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